答案是有的

芯片加工其实是一个系统工程，其中光刻机的研制主要由各子系统及主系统集成几个方面组成，我国在2002年推出的“十五”规划中《国家科技16个重大专项》的（02专项）就是针对光刻机设备的研发。并且为此专门组建了上海微电子装备有限公司(SMEE)作为研发主力，并且把中电科45所有关光科技研发的技术团队转移到了上海。

同时各主要的子系统部分也分别委托国内相关领域的顶尖科研团队参与集体研发。

极紫外光刻机（EUV）的研制主力研发单位是中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（简称长春光机所）

光源部分：由哈尔滨工业大学方面负责，最近消息DPP-EUV光源已经到了接近12* W的水平。

物镜部分：北京某单位已经研发成功对应的大口径光学镜面超精密加工机床，相关样机已经研制完成。

目前极紫外光刻机（EUV）样机已经完成并通过了国家验收，预计两年内正式量产的样机即将问世。

（毕竟长春光机所很早就是我国专业研究光刻机的科研单位，而且也是军用卫星镜头的主要研究单位，光学实力还是有的，同时据说长春光机主导研发的军用光刻机已经达到了28MN的加工精度，光机所控股的奥普光电就是以军用芯片生产为主的企业，只不过军用光刻机因为成本问题无法在民用领域进行推广）

深紫外浸入式光刻机（DUV）由上海微电子负责总体研发，

其中超精密光栅系统来自中国科学院上海光学精密机械研究所（中科院下属专门从事激光专业的研究所，简称上光所）

光刻机物镜组来自北京国望光学。（主要科研团队来自于长春光机所旗下的长春国科精密光学技术有限公司，是我国唯一一家超精密光学系统产业化技术研发单位，并且已经与长春光机所和上海光机所达成了战略投资。）

光源来自科益虹源。（是由亦庄国投、中国科学院光电院及微电子所、国科控股等共同出资设立，是具备专业高端准分子激光技术研究和产品化能力的企业）

浸液系统来自浙江启尔机电。（公司前身是浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室启尔团队，团队先后承担国家863计划和国家02科技重大专项等科研项目30余项。公司专注于光刻机浸没系统及其衍生产品的研发，在流体精密测控、（泛）半导体制造以及超纯工艺等方面拥有丰富的技术经验）。

双工件台来自华卓精科。（由清华IC装备团队在清华大学及其下属“北京-清华工业技术研究院”和02专项的支持下创立，是一家肩负着专项重大科研成果产业化重任的高新技术企业。华卓精科主要从事半导体制造装备及其关键零部件研发、设计、生产、销售与技术服务。）

上海微电子将于今年（2020年）12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机)，采用NA1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。该光刻机有生产7nm制程的潜力（多次曝光）。

可以看出，上面所列的科研机构和企业基本大都是基于02专项发展而来，可以说是集聚了我国各行业的顶尖科研实力，国家在很多年前就已经开始发力攻克光刻机的难关，相信在不远的未来国产光刻机一定能够成为我国的芯片行业的有力支撑。

这个肯定是有的，接下来我会根据个人的了解，给大家简单分析下，希望可以给大家提供帮助

国产光刻机发展史

1978年，1445所在GK-3光刻机的基础上开发了GK-4光刻机，把加工圆片直径从 50 毫米提高到 75 毫米。在同一年，中国科学院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻机，并在1981年研制成功两台样机。1982年科学院109厂的KHA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低。1985 年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过技术鉴定，认为达到美国4800DSW的水平。

个人分析：从这些可以看出，当时中国在光刻机机领域已经开始在研发，但是苦于技术问题，大规模应用还存在很大得困难。

90年代，由于国内奉行对外贸易政策，很多企业把中心都放在了对外贸易上，抛弃了独立自主，自力更生的指导方针，光刻机的研发基本处于停滞状态。

2000年后，中国芯片进入了海归创业和民企大发展的时代。大量的海归企业家从国外带来了先进的技术理念，促进了中国半导体行业的迅速发展。

2002年，上海微电子承担了 \" 十五 \" 光刻机的项目。

2009年，上海微电子研发的先进封装光刻机通过了出厂工艺测试，并正式签订了产品销售合同。该光刻机具有“大视场、大焦深、高套刻精度、边缘曝光”等技术特点，可满足先进封装I艺中8英寸及12英寸硅片级重新布线凸点等厚胶工艺要求。

2016年，上海微电子已经可以生产110纳米和280纳米的光刻机。

2018年，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。上海微电子600系列光刻机SSA600/20已经实现90nm分辨率，这已经是目前国产光刻机最先进的技术了。

个人分析：国产先进封装光刻机的研制成功与使用，标志着我国在高端封装关键设备产品创新与开发中取得了巨大的进步，对提升我国集成电路制造装备、工艺及材料技术的自主创新能力具有非常重要的意义。

国产光刻机厂家

上海微电子

中国电科

长春光机所

合肥芯硕半导体

先腾光电科技

总体来说，我国在光刻机领域的研制一直没有停止过，不过受制于各种因素，研制的进度比较缓慢，近几年来取得了较大的发展，但和世界先进水平还有较大差距。生产高端芯片使用的光刻机还是依赖于进口。相信不久的将来，我们是可以实现光刻机自主国产化的。

以上就是我个人对于此问题的理解和分析，如有不足之处还请多多指教，喜欢的可以点赞关注，谢谢!

咱们国内的上海微电子和安芯半导体都已经研制并发货了光刻机

上海微电子是咱们国内光刻机制造领域的龙头企业，占有国内光刻机市场的百分之七八十，并且还打开了国际市场发往海外！

2009年12月，上海微电子的首台先进封装光刻机产品SSB500/10A交付用户！

2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收！

如今，上海微电子研制的最新光刻机SSX600系列步进扫描投影光刻机，已经能够满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求！

据悉，2018年上海微电子出货光刻机50-60台；预计2019年出货光刻机不低于50台…

……

不仅仅是上海微电子，福建安芯半导体已经先后出货了2台光刻机，国产化率达到了60%左右！

……

上海微电子在低端光刻机市场，是超强级别的，但是却一直未能挤进中高端光刻机市场！

全球高端光刻机市场完全由荷兰阿斯麦ASML垄断，因为只有阿斯麦ASML搞定了EUV光刻机；想要生产/代工7nm制程及更先进制程的芯片，就必须要有EUV光刻机！

全球中端光刻机市场，主要由ASML、尼康、佳能垄断，ASML占大头！

上海微电子光刻机在技术水平上远远落后于阿斯麦，正在不断追近尼康和佳能！

落后并不可怕，只要咱们不认怂，总有一天能够追上去，甚至完成超越！

……

以上仅为浩子哥个人浅见，欢迎批评指正；

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我们的国家用算盘就能打出原子弹来，光刻机已经在研发的路上，只是太精密得设备暂时没有，由于美国的管控，导致我国的技术有些落后，能把胖五送上天，这个也不是大问题。

只要有专攻+投入+时间，发展那是没有问题的。上世纪五十年代后期，中国在感光材料的发展也是从零开始…。到了八十年代，咱们不也是进入了深水区了吗！无论是色彩的还原度、解像能力(颗粒度)、低灰雾等…，都有不错的产品。如今只要加强激光微刻技术的完善，乃防串层涂抹材料纳米条件下的适用研究就行…

要知光刻机构件一二万个零件，中国能生产百分之七十的零部件，举国之力，完全可以自研自制。如果中国现在能制作部件达不到百分之六十，近三五年是造不出光刻机来。团队没有，现组也可以，我想专业人才应该不多，同类技术人才应该不缺吧！全国在显微镜下作业的人应该很多，把这些人组织起来攻关，很快就能突破，集思广纳，高手在民间。

说句心里话，中国科技人才缺乏工匠思维，许多东西很难有突破。

我们的学校都是培养读书人的学校，都认为只有书本上的才是知识，只要读书就什么都能知道，就无所不能。这是一种没有科学依据的，愚蠢的封建思想。

说明一点，我说的读书不是指上学，也不是指教育。读书就是抱着书本读的意思。

我们必须要用科学的思维来弄清楚文字符号，和书本的作用。要弄清楚阅读为什么好，不要总是闭着眼睛，别人说好就说好。而且不要把读书，和学知识，上学，教育混为一体。

我们缺乏从手上从小就开始的细致地做，才能积累的知识和认识。这种知识和认识没有文字描述，也没有理论推导，就是靠积累。这是一种我们缺乏的智慧。因此，我们很难在各种发动机上获得突破。在制造业上，我们在许多方面都有这种靠细致入微地做才有的认识积累的缺失。

而且我们的社会习惯性地把靠手上技术做活的人，看得比靠完全读书本出来的要低一等。虽然嘴上没这么说。

有，分系统都有研发队伍，必然镜头和光学系统是长春光机所在搞，双动工作台也有，系统集成在上海。

只要公司们把需求转向国产，国内相关厂家定能生产可用高端芯片，也有人买商品。

基于金钱万能理论，国家投钱，全国做光刻机，全国研发芯片。