华为和国内顶尖企业合作，用ASML模式研发光刻机需要几年？

这是华为的福音了，随便利哪种庁法，中国对光刻机已经有了新的实破大肆进展，已经撑握了光刻机的核心技能，现在可能正忙着筹建生产光刻机的设备，预计一年之内就可以量产光刻机了，再也不会受别人掐脖子了。

华为和国内顶尖企业合作研制光刻机，我预测一到两年就可研制成功7nm光刻机。上海微电子早已量产90nm光刻机，现在已研制成功28nm光刻机，并进军14nm光刻机。中科院已设计成功5nm光刻机，量产需要一两年。所以华为投资加速光刻机研制是有希望的。

感谢邀请，恰好这几天在研究芯片方面。

首先给你个答案:可以。

但是，有了光刻机不代表就可以随意制造先进的芯片了，这是两码事，切忌!

华为在通信领域具有全球领先的地位，旗下海思也有着多年成熟的顶尖芯片设计方案能力，但是，在芯片制造上，国内企业还处于全面下风的境地。

而芯片的上下游产业链当中，光刻机仅仅是其中一个重要环节，即便你可以造出光刻机，以我国目前的精密制造能力，能够制造的也仅仅是精度较低的产品，暂时无法与荷兰阿斯麦的世界最先进的光刻机相抗衡的。

我们知道阿斯麦的光刻机零件，90%都是其他供应商提供，但是这个产业链完全在西方国家手中，而光刻机的核心技术极紫外线激光、浸润式光刻技术的核心依然被阿斯麦和台积电牢牢把控，光刻机中的精密镜头组件也被德日牢牢把控，可以说，在光刻机的核心技术上，我国几乎拿不到核心技术，而且这些技术西方国家已经持续不断研发迭代几十年，可不是华为和国内企业短时间可以迅速赶上。

更别提芯片制造庞大产业链当中，可不仅仅是是光刻机，还有许多重要环节，各种耗材、制造设备、检测设备，都掌握在美日几家巨头手中，如:美国应用材料、泛林集团、日本的东京电子等等。

目前我国最先进的芯片制造代工企业是中芯国际，已经可以制造14nm工艺芯片，但是仍然差距很大，光刻机还是荷兰阿斯麦提供。

而目前台积电三星等企业已经向5nm过渡，领先中芯国际几个世代。

有消息称，华为要进军芯片制造，因为美国打压之下，华为几乎拿不到最先进的制程来制造海思1020芯片，但是芯片制造是个系统工程，不可能一蹴而就，也绝对不是靠砸钱就能快速研发出来的。

大家都意识到芯片制造的重要性，这是好事，但是请科学对待，不要打肿脸充胖子，科学严谨、一步一个脚印进行才好。

时间不好说。

希望能快些。

我相信中国科技有实力造出极紫外光刻机。

中国的极紫外光刻技术已经有了突破。

技术突破到量产还需要时间。

我们要稳中求进。

在保证质量的前提下加快速度。

光刻机是华为的技术支持起来的，如果给国内的做，华为的技术扶持。三个月差不多

最少的5年以上。