90nm光刻机能做啥样的手机?最近受国际形势影响好多人在议论光刻机这个玩意儿,据说目前只有荷兰的最牛已经达到7nm,5nm级别了,而中国上海的一家公司也能做但精
您提起的上海那家公司是上海微电子装备有限公司,截止现在(2020/06/13)这家公司最先进的光刻机确实是90纳米的水平。但是不管是苹果和安卓,都没有经过90纳米的过程,第一代和第二代iPhone的CPU是ARM11,使用的是130纳米的工艺,第三代的iPhone3GS已经用上65纳米的工艺。到了iPhone4时已经用上45纳米工艺的自研A4处理器。
高通进入手机芯片制造稍微晚一些,是从65纳米开始的。从第二代S2系列以后才用上45纳米工艺。第一代小米手机M1用的是高通骁龙第三代S3系列的MSM8260处理器。
芯片制造主要看光刻机精度和工艺。按照现在的工艺,用90纳米光刻机经过两次曝光,可以获得45纳米的芯片,三次曝光可以最高达到22纳米的水平,三次曝光良品率过低,一般都控制在28纳米或者32纳米。也就是相当于苹果iPhone5/5S的A6/A7处理器水平,或者华为畅享6/7系列、小米红米4系列。
综上所述,利用现代工艺,在使用90纳米光刻机的情况下,我们可以做出90纳米、45纳米、28纳米的手机芯片。这几种芯片完全涵盖智能手机的范围,不会回到大哥大时代!
另外,上海微电子已经完成28纳米光刻机的突破,将于明年(2021年)正式交付使用!28纳米国产光刻机经过多次曝光工艺可以生产28纳米、14纳米、10纳米芯片,极限状态下,不考虑成本和良品率的情况下,也可以生产7纳米芯片。
90纳米制程工艺的芯片到底有多大,能做什么样的手机?
想想,台积电在大概在2004年,2005年的时候它的90纳米制程工艺技术才完全成熟起来,其实上述这个标题表述不准确,不是90纳米的光刻机,应该说90纳米制程工艺,纳米就是比头发丝还小的概念,90纳米并不是说的芯片整体外观大小,而说的是在芯片上光刻布置的元器件的间距。在芯片上光刻元器件,电路就跟拿着图纸在地基上建设许多房子与基础设施一样,建成后形成一个强大的整体处理功能区,这就是芯片。
其实90纳米制程工艺的芯片整体外观大小与现在7纳米,14纳米制程工艺芯片整体外观差不多一样的,只是芯片上面布置的元器件多少的问题,比如90纳米制程工艺芯片上可以光刻上10亿个元器件,那么7纳米制程工艺的芯片就可能布置上50亿个元器件,很简单的问题,那么肯定的是7纳米制程工艺的芯片功能要强大的多,因为7纳米制程工艺的芯片上元器件要多得多,设计更完善,更合理,功能越强大。
那么有90纳米制程工艺技术的光核机能做啥样的手机?不要小看90纳米制程工艺的芯片在大概2004年时候才成熟,那时候用90纳米制程工艺做的芯片在很多大牌手机上用过,80后的大哥肯定用过这样的手机,比如德州仪器的90纳米制程工艺的OMAP 1710CPU,那时候这个处理器就搭载在诺基亚一系列型号手机上,像N90,N80,E70,E60,主要诺基亚的N系列与E系列产品上,用过诺基亚手机都知道手机本身整体也不大,因此90纳米制程工艺与7纳米制程工艺做出来的芯片并不是说外观上有大小的关系,主要是功能上大小的关系。
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估计不会只做2G手机和大哥大!我虽外行不懂技术,可以想象一,1纳米是比一根头发小20000倍90纳米有多大?可能功能上不如7/9纳米,现在的手机某些功能对多数人没多大用或者根本用不上。因为竞争状态下厂家以功能争销量!所以说断供芯片不是手机一下回到2G或大哥大年代!压力变动力相信中国人定能解决这个难题!唯有如此!屈服只会换来更大的耻辱!
苹果的第一款手机cpu APL0098,于2007由三星电子90nm工艺制作的,它用于iphone 3G和第一代iphone touch上。
也就是说90nm工艺造出来的芯片只能用于几乎算第一代的智能手机上,现在即使程序支持这个cpu,但是跑啥程序都会卡的没法用。
别的不说,做出来的手机同样性能的情况下个头肯定不小。因为在相同性能的情况下芯片的面积需要大很多倍。再就是架构之类的也有很大的关系。纯小白,只能说这些了。
遇到困难迎难而上的是勇士,跪下求饶的是软蛋,自己跪下还对敢于面对困难的勇士冷嘲热讽嫌人不跪好的是贱人。90nm的工艺如果是我们能够使用的最好技术的话,在有限资源的基础上克服困难也会有一个能够接受的结果。至于目前貌似拦路虎的芯片问题,以中国举国之力,必将成为我们这个民族前进道路上的一个路标。
其实并不是90nm光刻机,准确的来说可以是90nm制作工艺,通过这种工艺,我们可以做出90nm,45nm和28nm的手机芯片,这几种芯片完全可以涵盖整个智能手机的范围,有网友担心会不会回到大哥大时代,其实这种担心是多余的,在现代工艺结合90nm的制作工艺情况下,完全可以实现现在的目标。
纳米就是比头发丝还小的概念,90nm说的不是芯片整体外观的大小,而是在芯片上光刻布置元器件的距离。在芯片上光刻元器件,其实就跟拿着图纸在地上建设各种各样的建筑物一样,建成之后就会形成一个强大的整体处理功能区,其实这就是芯片。用90nm制作工艺制作的芯片,其实外观和现在常见的7nm,14nm制作工艺制作的芯片很像,只是芯片上边布置的元件器有多有少的问题。就好比用90nm制作工艺制作的芯片可以光刻上10亿个元器件,这样来说,7nm制作工艺制作的芯片上很有可能可以布置50亿个元器件,由此,7nm制作工艺制作的芯片功能比其他的要强大的多的多。
既然有了90nm制作工艺技术,那么,就不可以小看它。90nm制作工艺大概在15年前逐渐成熟,那个时候很多的大牌手机都运用过90nm制作工艺制作的芯片,80后小伙伴熟悉的大哥大肯定用过这种技术,在诺基亚一系列型号的手机上,就像N90,N80,E70和E60,搭载的是德州仪器的是OMAP1710CPU,
比如德州仪器的90纳米制程工艺的OMAP 1710CPU,相信大家对于诺基亚是有一定了解的,诺基亚手机外身整体并不大。所以说不同的纳米制作工艺并不在于外观大小的不同,重点在于功能技术的差别。
如果90nm制作工艺对我们来说很重要,那么我们会不计一切代价去克服有关方面的困难,争取将这个工艺发展到最好。现在我们已经逐步步入5G时代,在这种大数据时代发展之下,任何困难都不会将我们难住。
90纳米的光科技根本不可能做手机,现在正常的手机用20纳米以上的工艺的都很难找到了,90纳米至少是十几年前就已经被手机和电脑处理器淘汰的产品了。
90nm光刻机不是只能做90nm芯片,曝光是可以多次进行的,每曝光一次增加一倍。经过3次曝光可以达到28nm,虽然做坏的可能性极大。
28nm对应的是苹果的A7芯片,也就是iphone5s上面那块。在天梯上它的性能差不多就是麒麟920一档,也就是荣耀6。
要看是90纳米制程还是90纳米的光刻机。90纳米制程和现在主流7纳米相差太大不适合做手机芯片,因为手机芯片追求体积小巧和低功耗。如果是90纳米光刻机并不是做出来的芯片就是90纳米,可以曝光3次达到14纳米级别。但是7纳米以下基本就是euv能做,asml最先进的机器是13.5纳米,并不是波长5纳米7纳米
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