如果中国可以做出光刻机，欧美国家会有什么反应？

Answer 1

中国有自己的光刻机技术，但是距离世界顶尖水平差距还是非常明显。做光刻机最厉害的企业属于荷兰的ASML公司，几乎全球顶端的光刻机都是他们一家来供给的，而且最高端的还不卖给中国，单单一台的价格就价值1亿美金，在全球范围内有钱都买不到的地位，这也是国内光刻机努力的对象，中国也拥有自己的光刻机技术但是距离顶端差距还是非常明显。

说到光刻机早期中国只是在90nm上有突破，近些年中国利用紫光光源成功突破了22nm的技术壁垒，发现中国已经在这方面有了突破于是荷兰的ASML也开始答应给中国提供设备，即使同意供给肯定不是最先进的，同时也是为了抑制中国光刻机的发展。中国很多核心技术就是在这种状态下诞生的发现中国有了突破，马上一个大转弯扭转态度，要想赢得别人的尊重还是需要依靠自身的技术实力，欧美国家在很多技术都对中国封锁，只要是中国在技术上有了突破马上就会降价销售，也在一定程度上抑制中国产业的发展。

说到光刻机的最顶尖还是荷兰的ASML公司，一个光刻机只是零件就需要3万多个，而且想要购买ASML的设备，必须先要入股这家企业，这是非常独特的一种营销方式，像三星台积电都是ASML的主要客户，台积电是全球最大的芯片光刻机代工厂，不要小瞧简单的代工，不像普通的代工技术那么简单需要有极高的门槛，中国的光刻机技术主要应用在低端芯片上，时间久了也能慢慢积累出一定的经验，中国的光刻机技术早晚能够突破，但需要很长的一段时间。

光刻机需要精密的测量仪器，在这方面国内的理论基础还比较薄弱，这些需要长时间产业的积累，几万个零件需要用全球的元器件，核心器件掌握在德国美国日本等国家的手上，即使理论上突破在实践过程中也未必能够有对应的元器件去测试。如果中国拥有了真正的高端的光刻机，欧美等国家也只能拿出最新的光刻机出售给我们，并且在价位上要比之前低很多，中国改革开放以来在基础工业上有了很大的进步，但是很多稀缺行业还是处于非常落后的位置，特别是像光刻机这种高精密的仪器。

现在阶段要做的是如何攻克尖端的光刻机，荷兰的ASML主要用到德国的高精密制造和测试技术，在国外90%高精密仪器对中国都是禁运的，这些工艺不是简单的制造业需要时间日积月累来完成，路漫漫其修远兮，希望能帮到你。

Answer 2

我对光刻机不懂，对芯片也不懂，只说说自已的看法。

在很多人眼里，光刻机和芯片就是唯一的高科技，制造光刻机只有何兰那家公司，制造高端芯片只有台积电和三星。

不管是七纳米也好，五纳米也好，就是全宇宙第一也好，都是为了减少芯片体积，好塞进功能日益增加的手机里面。但芯片可不止用于手机，上至航天器，下至日常电器，都有芯片的存在。军用芯片要求皮实耐操，日常电器要求简单实用，对芯片体积要求不大，我想，生产这些芯片用不了何兰公司的七纳米光刻机吧。

现在增长最快的是车载芯片，汽车那么大，芯片大点应无所:谓。高通芯片再先进，目前也指染不了。

再说，荷兰公司一年也就生产十多台高端光刻机，除了台积电和三星等，不见多少欧美公司用。可见撑死也就那么大市场，并非不可或缺。如果荷兰公司的产品有航母丶火箭丶四代机那么重要，甚至有挖洞的盾构机那么重要，早就没荷兰公司的事了。

我是农民，语文水平不高，別笑我文笔不通。

Answer 3

如果中国可以做出光刻机，欧美国家会有什么反应？这确实是个值得探讨的问题，不只是光刻机，在我们这几十年高速发展的历史已经证明，我们需要进口的东西别人会联合死劲抬高价格赚我们的钱并且还不会把最好的卖给我们，当我们萌芽发展起来以后又不停的阻挠压制我们，最后靠我们的坚强反过来又搞死他们。光刻机一样，当我们做不出来时价格高昂还不把好的卖给我们，当我们可以做出光刻机可以大批量生产时，估计也会遭遇这样那样的阻挠。

目前国产光刻机可以说还处于刚刚发芽的状态，别人ASML已经在7nm制程上大展身手了，我们量产的设备也就90纳米，我们才刚刚研发出22nm的光刻机，差距不是一般的大。因为我们的光刻机起步很晚，再加上以前忽略国产高端芯片的研发制造也有关系。但早在2009年国产封装光刻机就开始了生产，由上海微电子装备有限公司研发的封装光刻机应用在了江阴长电先进封装有限公司里，并且应用在8英寸及12英寸的多层光刻中。

现在研发出世界第一台单次成像达到22纳米的SP光刻机，也是非常厉害的了。这种光刻机与ASML的光刻机模式是不一样的，按照ASML传统模式走可能我们要实现赶超超越还不知道是猴年马月的事情了，不过SP光刻机可能会改写这样的状况实现弯道超车。看似22纳米与目前高端的7纳米差很多，但情况并没有这么悲观。虽然SP光刻机单次成像达到22纳米，但结合多重曝光的技术，可以制造10纳米以下的信息器件。只不过要等到2022年左右才能完成验收，还要等几年才能成熟的应用。

在现阶段我们国产光刻机还很弱小时，即使是欧美国家也没有办法阻挠，最多也就是封锁封锁技术和人才。但一旦有一定形成一定的气候时，他们可能就会有各种各样的方法与借口进行阻挠到他们市场销售等等。但就像以前家用电器发展一样，当我们强大到一定程度时，对他们形成反冲击又不得不接受我们，只要产品品质够好，光刻机也会是一样的。这几十年的发展道路就是这样走过来的。

不过，好事虽多磨，但终究会好起来的。

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Answer 4

如果我们做出光刻机，那对于我国芯片产业是最好的，说明我国的科技产业进去了新的发展阶段，基本上是即将结束了国外芯片一家独大鹅子情况，

一、什么是光刻机

光刻机叫掩模对准曝光机，主要是芯片制造的核心机器，芯片的工艺需要由于光来雕刻电路，这就是光刻机，需要对应的光刻机才能生产对应的芯片，比如7nm的芯片需要至少7nm芯片级的光刻机才能生产，所以光刻机本质上就是芯片技术的保证，现在如果出来5nm光刻机，马上就可以生产5nm芯片了，而没有5nm光刻机，就不可能生产5nm芯片。

二、光刻机需要巨大的投入

光刻机龙头asml1971年就从菲利普分出来了，已经有近50年的历史，而且投入巨大，2017年asml的研发成本是97亿元，而一个光刻机的评论售价高达1亿美元，euv光刻机成本高达1亿欧元。

所以asml垄断了光刻机，曾经受制于西方的技术封锁，asml都不卖最新的光刻机给我国，不过现在已经开放了。

三、光刻机是对芯片的巨大发展

我国现在研发的光刻机甚至都不能使用生产CPU，所以用在技术要求不高的场景，所以这根本不可能打破国外的芯片垄断，我们还是只能买高通，用amd的基础架构。

如果生产了光刻机，那西方就要担心我们的芯片产业在全球领先了。而且整个芯片产业链都会发展起来。

你认为我国芯片华为还有发展壮大的机会啊？

Answer 5

哈哈，中国本身就是可以造出光刻机的，不过比世界最先进的标准差两到三代，荷兰阿斯麦的高端光刻机现在可以做出7纳米工艺的成熟产品，下一步应该是5纳米，3纳米。

不过最近两年我国光刻设备研发取得长足的进步，发展惊人，就在前两天爆出喜讯，中科院光电研究所攻关研制出世界首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。其实计划是2030年要达到世界先进水平，与世界先进技术齐平，以现在看来可能会提前完成目标。

我国光刻技术进步，会使世界上的光刻设备销售价变成白菜价，荷兰阿斯麦的高端光刻设备售价可以达到1亿多美金一台，光一个极紫外光源就要3000万，而我们的紫外光源只要几万块钱一个，光刻机整机也只需百万级别，到千万级别的。其实我们去买它们的最顶端的光刻机，根本就不会卖给我们。

如果我们有了较先进的光刻机，荷兰阿斯麦会怎么做？

首先我们的技术达到什么级别。他会放开同级别的光刻机销量，允许中国客户去购买与国内同级别技术的光刻机，前不久中芯国际不是订购阿斯麦一台好像是14纳米制作工艺的光刻机，花了七八千万吧，2019年交货。好处就是它的技术较成熟，稳定，成品率高，它其实愿意开放销售，就是想把我们的技术踩在脚下，牵制我们的销量。也是一种竞争打压。让你的研发经费打水漂，长期回不来。

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Answer 6

没有如果，中国现在就有现成的光刻机。不过欧美并没有什么反应，震惊是不可能的，因为我国光刻机最高水平目前落后当前国际最高技术水平的ASML差不多是十几年的样子，在民用市场几乎不具备任何威胁。

目前中国有不到十家光刻机生产商的样子，目前上市产品走在最前面的是上海微电子（SMEE），其次是长春国科，前者已经可以生产整机，后者可以生产光刻机光源和曝光系统。上海微电子90nm光刻机已经累计交付100台，这里的90nm指的是分辨率极限为90nm，不代表芯片制程，芯片制程通常要比分辨率极限低再一些。

SMEE的SSA600/20光刻机，代表目前国产上市产品的最高水平

SMEE的几款光刻机的技术参数

长春国科的90nm光刻机曝光系统

长春国科90nm光刻机曝光系统刻蚀面的电子显微镜照片

SSX600系列属于上一代，也就是第四代光刻机技术水平。这种光刻机用的是ArF excimer laser光源，属于一种准分子光源，波长在193nm。然而在第四代中，SSX600也算不上先进，因为它用的还是步进扫描投影路线，这种路线工艺极限只能做到65nm，而我们之前见到的45nm，28nm工艺用的是第四代光刻机中的浸没步进式光刻机，这种光刻机将传统光刻机镜头和光刻胶之间的空气换成了液体，因此得名浸没式，由于液体折射率较大，相当于改变了NA。由光刻机分辨率=k1*λ/NA，可知，NA越大分辨率越高。因此浸没式光刻机工艺可以大幅提升分辨率，做到45-22nm。浸没步进式光刻机是新的EUV光刻机出现前的产品，因此上海微电子这个只相当于4代光刻机中的早期水准，落后ASML 最新的EUV光刻机一代半。

浸没式步进光刻机的原理

ASML光刻机

那么是不是中国光刻机就毫无希望了呢？只能说要追赶还有太长的路要走，但希望还是有。2016年，上海微电子研发的28nm浸没式光刻机已经通过了验收，意味着即将投放市场；2017年，长春光机所已经在超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等核心单元技术取得突破，首次试制出了EUV光刻曝光装置，首次得到了32nm线款的光刻胶曝光图形。上面提到的光春国科其实是长春光机所的子公司，所以可以预见，背靠长光所的长春国科未来还是有相当大潜力。

Answer 7

目前阿斯麦代表的euv光刻机是世界顶尖光刻机，再次一点的是日本的尼康与佳能，再次一点的，哈哈，就是上海微电子了。顶尖光刻机，数量少，价值高。光刻机市场销量呈金字塔结构，但是利润呈倒金字塔结构。

同一个制程，谁最先进，谁统一整个市场。所以目前世界光刻机市场销量方面呈现阿斯麦统一一流市场，日本尼康佳能统一二流市场，中国统一三流市场，但是利润最少。

题主说的能不能造光刻机应该指的是能不能造阿斯麦一级的euv光刻机。这种光刻机的制造是整个西方世界最先进工业体系配套经过不停摸索出来的结果。

阿斯麦的镜头大部分都是世界顶级相机生产商蔡司制造的，而光刻机上的镜头，很多都是通过工人借助高精密机器打磨的，这些工人大部分是世代相传的手艺，而中国目前工业化也就几十年。

机械部分的加工精度也要求很高，而德国通快等机床产业也为阿斯麦提供了支持。

所以如果中国能造出阿斯麦一级的光刻机，也就意味着我们的产业链上的公司已经具备世界第一流的水准，也就意味着航天，舰艇，飞机，发动机的水准也具备第一流水准。

至于说芯片是不是就可以挑战美帝霸权了。答案是不能，因为美帝掌握芯片霸权并不是因为可以制造芯片。拿日本举例，当年日本在低价购买到美国的芯片制造技术后，迅速扩大产能。在芯片制造领域，把美国打败，但是因为芯片设计与基础科研的落后，在美国推出cpu等通用芯片后，日本整个产能都显得落后一代。

所以，美国的芯片霸权在设计层面是因为1.计算机基础理论的研究走在了世界最前沿。2.成熟的金融体系为高风险活动提供资金。3，健全的制度环境保证金融体系的健康运转。起码在这些方面，我们还落后很多。

Answer 8

国外垄断了，只能逼迫我们自己研发，最多是慢一点而已，最近国内的一些基建设备，譬如开挖地铁的盾沟机等，都不是国外封锁自己研究的么。

国际空间站当初没有我们的份，现在自己建造的中国空间站快要运行了。

西方对中国复兴的恐惧，注定了核心技术只能靠自己，国外都是国际合作，各自专心钻研自己的特长技术，中国要做，只能全产业链的做，这就注定了中国的科技之路要远远难于西方，但是一旦做出来，就不会受任何国家钳制，譬如中国的火箭技术。

相信世界最先进的芯片制造机在中国诞生指日可待！

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Answer 9

先来介绍什么是光刻机。

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机。在生产芯片过程中，由于集成电路很细，就比如麒麟980芯片是7nm工艺的，就代表该芯片中电路宽度为7nm，并且电路数量动辄几亿甚至几十亿条，显然不能用机械雕刻，这就需要用“光”来雕刻电路，这就是光刻机的用途。

为了达到目的，科学家在金属上覆盖上一层光刻胶，然后利用光刻机去照射，那些被光线照射到的光刻胶就消失了，然后再用化学物质腐蚀，那么电路的形状就出来了。可见，光刻机在芯片、电路板的生产过程中多么重要。

正是因为光刻机的精度高、技术要求高，光刻机的价格一直居高不下，动辄几千万美元。更可气的是最先进的光刻机美国不卖给中国，这也是为什么国内芯片达不到高精度，连生产工具都掌握在别的国家手里，生产出的芯片还能比得过别的国家吗？

非常遗憾的是，现在国内的光刻机还处于起步阶段，水平落后世界很多。目前国内能够量产的光刻机只能够光刻90nm的大规模集成电路，跟最先进7nm的设备差距可以说是极大的。

就在上周四新华社发文称，国家重大科研装备研制项目——“超分辨光刻装备研制”在成都成功通过专家组验收。报道称该设备是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。笔者也有幸去了中科院光电所旁听此次验收会，写了报道，还算熟悉，无法苟同一些漫无边际的瞎扯。

中科院研发的这台光刻机并不能用来CPU，只能用在一些技术要求较低的场景。在验收会上有记者问：该光刻设备能不能打破国外芯片的垄断？光电所专家回答说，光刻机用于芯片需要还攻克大量技术难题，目前距离还很遥远。

从目前来看，中国是有能力研发光刻机的，也成功量产了许多。但是要和最先进的光刻机比，国内还相差甚远。不过我们也不需要为之担忧，在这方面中国本来起步就晚，现在比不过欧美国家也是正常的。都是相信在不久的将来，光刻机这一难题终将被攻克！

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