光刻机需要哪些技术？中国缺哪些技术？下一代光刻机技术是什么？

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你认为光刻机需要哪些技术？

我们先来说一下光刻机它所需要的零部件，用ASML的首席执行官Peter Wennink的话来说，光刻机包括有80000个零件，其中许多零件非常复杂，这对于我们来说确实比较难以接受，但这是事实。

为什么我国在光刻机领域目前发展受到一定的牵制？一方面是因为光刻机本身的零部件相对复杂，对于很多零部件来说都是国际社会中，多个领域共同涉及的，我们想要进口这些光刻机零部件，可能会受到多方面的阻挠。另外一方面，因为西方国家的瓦纳森协议，实际上是阻止了我国技术的进步。

所以，我们目前为止在光刻机领域确实发展相对缓慢，上海微电子目前所推出的是90纳米光科技，其实在2021年可以推出28纳米工艺的光刻机，也需要一定的时间。而且我们也非常清楚它和ASML的差距还是占据着不小的差距。

我们光刻机技术到底缺席哪些东西？你可以看到光刻机的构造中有非常多的内容，他不仅仅包括光源系统还包括，环境控制系统，掩膜传输系统，工作台系统等等。

我们想到的是，可不可以通过使用碳基材料来解决芯片的问题呢？一方面我国的碳基材料的研究比较深入，并且能够很容易解决芯片方面的问题；另一方面，碳基材料对光刻机没有太大的依赖，甚至不用光刻机也可以。所以，我们猜测是不是可以不使用光刻机也能够解决芯片的问题。

不过，我还是认为到底这些弯道超车到底能不能成功？还需要更长时间的检测才可以。

不要梦想着什么都自己制造，什么都能制造，也意味着什么也造不好。

荷兰光刻机是整合了全球范围内几十家顶级企业产品的集合体，这是人类智慧的结晶，即便科技发达如美国日本等都没有能力独立制造，你觉得我们的希望又有多大？

有人说，问题是他们不卖给我们啊，不独立制造又如何？可另一个问题是，为啥不卖给你，却可以卖给其他国家呢？有人说，是为了遏制中国崛起，可为什么不遏制德国日本印度的崛起呢？独独遏制你呢？别忘了中美在二战时期是盟友关系，德国日本反而是敌对国，造成今天这个结局的原因是什么？有人反思过吗？

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