十年内中国能做出光刻机吗？

这个问题提得有问题，中国早就有光刻机了。只不过是中低端的，能生产22纳米的芯片，不能生产7纳米以下的高端光刻机。

十年内能否生产出高端光刻机，这个很难说，现代科技日新月异，更新换代很快。有的发明一两年就过时了。象影碟机，传唤机，磁卡电话，变化周期非常短。过去日本电视的摸似技术最好，美国来个数码技术，一下就把摸似技术甩出几条街。

很有可能十年后，说不定芯片制造已经不用光刻机了，被另外的科学技术代替了。在十年前你会想到视频通话吗？可能当时这种想去是个天方夜潭，结果几年就实现了。现代科技，十年之内，我们意想不到的事情，随时都有可能发生。

用毛主席的话说，一万年也要造出来，要用多久就用多久！这个时间我们不要定！

先不说能否生产出来，先说十年后生产出来的光刻机能否派上用场还是个大大的问号，一是你研制创新，别人也没有闲着，只有赶超才有意义。二是十年后的芯片是否还是硅基材料说不准，若改用其他材料比如碳基材料等，还用不用光刻机也说不准。故十年后能否生产出光刻机是个没有意义的疑问，至少最近几年还是要光刻机的。

我国十年前就能做光刻机啦！关键是做到什么层次，应该问我国在今后的十年内能做3~5nm的光刻机吗？可以说只要碳基获得突破，完全能做到反超。

应该不用十年，当然可能不是最高端的，但一定是国际先进的。

中国光刻机60年代就有了，成熟是上海中微得90纳米，2021年会出做到7纳米到大约68纳米光刻机。

你是问能否出现在asml可以到2纳米导14纳米光刻机，3年5年内会搞出来。光刻机原理是照相机，对系统整合能力要求很高 只有大型卫星能与之比。其中所需高端光源和双工作台都有出来，中国找搞搞分卫星人才整合各个厂家很快取得突破。

上海中微是世界主要光刻机厂家之一。有家研究所走中间计划，第一次曝光有20纳米，不比asml14纳米，多次曝光到5纳米也可以。

asml整合了世界供应商，中国也要看整合能力。中国看整合能力， 主要是造宇航设备的企业，如果由设计制造卫星经验得管理项目，可能很快。

高分卫星就是照相机，光刻机也是照相机，价格都是亿级。

但有光刻机需要很多投入，积累很多经验，才能达到台积电和三星到5纳米工艺，并不容易。半导体制造是很辛苦得工作 ，要求极高。就是有台可以到7纳米光刻机，造40纳米都很难。

现在不是有了吗？还需要十年？

做的出也未必生产的出合格的芯片，真正的核心生产技术人家是不会申请专利而公之于众的！而是由少数几个技工秘密掌握!

看什么水平的光刻机，现在也有你不知道吗？重奖之下必有勇夫，汉芯系列不也是国际领先，弘芯也在追赶，?芯不会太远了。

十年？光刻机也在更新，十年后也许什么新发明就出来能替代光刻机了，所有，如果短时间内不能研发出光刻机估计后几年就可以换换思路了。